尼康的牛逼之處，就是人家是產(chǎn)業(yè)鏈集合，所有的零件都能自己搞定。

        但是，在進入九十年代，光刻機的生產(chǎn)商碰到了一個技術(shù)關(guān)卡：光刻機使用的光源是193納米的，它就限制了光刻機的繼續(xù)升級！

        想要凋刻東西越精細(xì)，刀子就得越鋒利，193納米的激光已經(jīng)不夠細(xì)了，接下來該怎么辦呢？

        尼康作...p;尼康作為科技巨頭，想的辦法也很簡單，直接換用157納米的F2激光，這樣就能解決問題了。

        而為了對抗尼康成立的聯(lián)盟則押注更激進的極紫外技術(shù)，將光源切換成十幾納米的極紫外光，這樣不僅僅能解決現(xiàn)有的問題，還能一直用到以后，刻十納米以下的芯片制程都沒問題。

        但是，這兩種技術(shù)都不容易，都面臨著技術(shù)難關(guān)，這就是九十年代最出名的193納米關(guān)卡！

        凡是遇到難關(guān)的時候，總是有天才出現(xiàn)的，現(xiàn)在也不例外，一個名叫林本堅的鬼才工程師出現(xiàn)了。

        當(dāng)光線透過水之后，頻率不變，但是波長會發(fā)生變化，這就是水的折射率，所以，只要在光刻機的光源和硅片之間加一層水，讓原本的193納米的激光發(fā)生一次折射，不就能大大地降低了嗎？

        簡單計算就能知道，波長會降低到132納米！

        這樣，不僅僅能降低了光刻機的波長，刻蝕更加精密的電路，而且，對機器的改動還最小！

        以前的就叫做干刻法，現(xiàn)在可以叫做濕刻法了！

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