而提到材料學，就不得不提到奠定了日本在精密加工以及精密芯片行業的統治地位的另一個基礎產業，那就是光刻機。

        光刻機是生產大規模集成電路的核心設備，制造和維護需要高度的光學和電子工業基礎，世界上只有少數廠家掌握。因此光刻機價格昂貴，通常在3，000至5，0000萬美元。

        光刻機/紫外曝光機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫.

        一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

        &光刻意思是用光來制作一個圖形工藝。

        在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“復制”到硅片上的過程。

        高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常在十幾納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有7000萬美金的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其制造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭a**l鏡頭來自德國，日本尼康intel曾經購買過nikon的高端光刻機和日本佳能三大品牌為主。

        而光刻機里面最重要的就是曝光系統、工件臺和對準系統。

        曝光系統的主要功能就是平滑衍射效應、實現均勻照明、濾光和冷光處理、實現強光照明和光強調節等。

        工件臺由掩模樣片整體運動臺xy、掩模樣片相對運動臺xy、轉動臺、樣片調平機構、樣片調焦機構、承片臺、掩模夾、抽拉掩模臺組成。

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