比如說(shuō)申城微電早就已經(jīng)啟動(dòng)了EUV光刻機(jī)的研制。

        研究EUV光刻機(jī)難度極其的大。

        之前的光刻機(jī)是用的光源是深紫外光，現(xiàn)在申城微電實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的130納米光刻機(jī)依舊使用的深紫外光。

        可EUV光刻機(jī)得要用極紫外光。

        而極紫外光刻機(jī)早在八十年底的時(shí)候就被提出，1999年的時(shí)候ASML公司開(kāi)始進(jìn)行研發(fā)，計(jì)劃在2004年的時(shí)候推出產(chǎn)品。

        只不過(guò)到2010年的時(shí)候才做出原型機(jī)，到了2016年的時(shí)候才實(shí)現(xiàn)向下游客戶供貨，比預(yù)期之中整整的晚了十二年時(shí)間。

        韓松林對(duì)光刻機(jī)了解不多，可也是知道EUV光刻機(jī)的，能夠?qū)⑿酒瞥探o做到7納米，甚至5納米，3納米，就只有EUV光刻機(jī)能夠做到。

        而Asml公司能夠在未來(lái)獨(dú)霸全球，占據(jù)全球光刻機(jī)市場(chǎng)百分之八十的市場(chǎng)，就因?yàn)槿思以诩夹g(shù)路線的選擇上面走對(duì)了。

        韓松林知道，光刻機(jī)有兩樣?xùn)|西很重要：光源和光學(xué)透鏡。

        為此在星辰院專門的成立了光源研究所和光學(xué)研究所。

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