而現在他則是翻來覆去的看這篇很短的發(fā)言，看了半天，感覺他好像啥都沒有說。

        其實在這個會議上，真正最具備含金量的在趙長安看來，是MIT研發(fā)報告里面提到的那句‘在193nm浸沒的情況下157nm問題常見的普遍困難都不存在，幾乎等同于現今處于干式介質中193nm步進式光刻機效果。’

        這句話里面暗含著一個重大的，如同窗戶紙一樣，卻直到03年7月才開始被國半導體制造技術聯(lián)盟，成員包括m國防部、能源部、國家實驗室、國家科學委員會、國家標準及技術院、MIT，得州大學，ASML，——捅破。

        就是既然193nm在浸沒式液體之中既然依然是那么的穩(wěn)定，為什么一定要使用難題很多的157nm作為浸沒式光源，為什么就不能依然用193nm。

        而現在所有人都這么認為，既然193nm在干式介質就已經很穩(wěn)定，為什么要脫了褲子放屁，要把它放在液態(tài)流體之中多此一舉？

        這里面唯一所欠缺的一個幾乎這些技術人員都知道的常識要素，沒有被他們考慮進去，就是液體和干式介質之間，不同的折射率。

        實際上在趙長安的前一世，林博士在自傳中說到，他在不久前的SPIE微光刻，發(fā)表了很具有重量級的發(fā)言。

        “我在研討會發(fā)表用水配合193納米，能比干式的157納米多增進一世代，而且比后者容易開發(fā)。結果全場轟動。我演講后，所有交談的時間大家都在討論這個題目。”

        實際上，似乎真的沒有這個事實，因為他的發(fā)言人家留有錄音，這個可真是做不得假。

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