1986年，電子工業部在廈門召開集成電路發展戰略研討會，提出“七五”（1986—1990年）期間我國集成電路技術的“531”發展戰略，即普及推廣以742廠為基點的5微米技術，同時開發3微米技術，攻關1微米技術。

        但實際上，一直到1993年的時候，國內才開發出5英寸，三微米技術，而這比起日本，已經整整相差了15年以上。

        “這套設備我要了。”段云走到一臺光刻機前，對田中信一說道。

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        “段云先生……”田中聞言先是愣了一下，隨即笑著對段云說道：“這是目前我們公司最先進的光刻機，全日本也只有6臺，這個是不可能賣給你們的……另外你們生產的這種閃存芯片也用不著精密度這么高的光刻機。”

        “那貴公司打算賣給我們哪一臺光刻機？”段云問道。

        段云其實早就知道東芝公司不可能把最先進的東西賣給自己，而且就算他賣，日本政府也不會同意。

        一直以來日本政府對于芯片產業扶持力度都非常大，不光稅收方面有優惠，東芝芯片產業的稅率只有百分之20，遠遠低于美國公司45%~50%的稅率，另外日本政府一直鼓勵國內頂級高校的大學生從事芯片產業技術研究，并且設立了相關專業的高額獎學金，也正是因為以上種種舉措，才使得日本的芯片產業力壓美國，成為全球第一。

        頂尖的光刻機是絕對不可能賣給中國的，除了日本政府的嚴格監督，還有就是受限于巴統協議，所以從一開始，東芝在中國辦廠所用的設備注定不是最先進的。

        實際上光刻機一直都是制約中國國內芯片產業發展的瓶頸，其他方面諸如原晶切割機，蝕刻機這些東西，國內的技術和國際有差距，但是這種差距并不大，在技術難度上，遠比光刻機要簡單的多。

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