盡管得到了黃令儀承諾的可以在年內(nèi)完成NADA芯片的承諾，然而對段云來說，如果想長期在國際芯片產(chǎn)業(yè)占據(jù)一席之地，它還有很多的問題需要解決。

        而其中之一，就是要保證擁有制造芯片所需的最先進的光刻機。

        說起光刻機，后世人們第一個想到的就是荷蘭的阿斯麥公司。

        其實在七八十年代的時候，咱們國家就已經(jīng)有了國產(chǎn)光刻機。

        國產(chǎn)第1臺光刻機GK-3型半自動接近式光刻機誕生于1977年，而那個時候荷蘭的阿斯麥連成立都沒有成立。

        光刻機是大系統(tǒng)高精尖技術(shù)和工程極限高度融合的結(jié)晶，被譽為集成電路產(chǎn)業(yè)鏈“皇冠上的明珠”。

        日本的尼康和佳能于20世紀60年代末開始進入光刻機領(lǐng)域，中國利用光刻技術(shù)制造集成電路，大致也是始于同一時期。

        但是中國的光刻機產(chǎn)業(yè)可以用一句話來形容，那就是：起了個大早，趕了個晚集。

        1965年，我國第1塊集成電路在北京，石家莊和上海等地相繼問世，1974年9月第1次全國大規(guī)模集成電路工業(yè)會議召開，國家紀委在北京召開的“全國大規(guī)模集成電路及基礎(chǔ)材料攻關(guān)大會戰(zhàn)會議”上，擬定的目標(biāo)是在1974年到1976年，突破大規(guī)模集成電路的工藝裝備基礎(chǔ)材料等方面的關(guān)鍵技術(shù)，司機部組織京滬電子工業(yè)會戰(zhàn)進行大規(guī)模集成電路及材料裝備研發(fā)，突破超威力鋼板，光刻膠超純凈試劑，高純度氣體磁場，偏轉(zhuǎn)電子束鍍膜機等材料裝備。

        1975年12月第2次全國大規(guī)模集成電路會議在上海召開，1977年1月第3次全國大規(guī)模集成電路會議在貴州召開，這三次會議可以說直接導(dǎo)致了上世紀80年代前后，中科院系統(tǒng)電子部系統(tǒng)地方各研發(fā)單位光刻機成果的第1次大爆發(fā)。

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