第一步是把碳納米管提純到99.9999%，俗稱6個9的純度之后，得到半導體碳納米管，只有這個純度或者以上的碳納米管才有可能用于集成電路。

        第二步則是要在晶圓上面亮度地排列碳納米管。

        這一步國內使用的方法是維度限制自組裝方法，先是把上一步提純出來的碳納米管分散在三氯乙烷里，隨后再在分散液上滴上丁烯二醇，丁烯二醇會在三氯乙烷表面形成一個不互融的薄層。由于上一步提純步驟在碳納米管表面包裹了一層高分子，所以碳納米管會在丁烯二醇和三氯乙烷的界面上平行排列。

        這時再把豎插在溶液中的晶圓緩緩垂直拉起，液體的表面張力會把這些碳納米管平行地拉到晶圓上面，一微米的空間里面，甚至能夠放下多達二百根碳納米管。

        接下來再給碳納米管兩邊增加源漏電極和門電極，把它真正變成一個晶體管，這些都需要用到光刻技術這些微加工技術。

        可領！

        是的，目前的碳基芯片還是一樣需要使用光刻及電子束刻蝕等技術，才能得到納米級的電子圖形。

        并沒有一些人想象的那么輕松，換了一種材料就可以甩開一切束縛。

        因為這種微觀層面的加工能力是芯片所必須的。

        哪怕不用光刻機，也會有暗刻機、明刻機……

        內容未完，下一頁繼續閱讀